منجل

یه منجل عشق تقدیم به تو ، عشق مال خوت بی زحمت منجل خالی بکو مال مردومن

نانو

آزمایشگاه های نانو مرکز دارای امکانات و روش های متنوعی برای تولید انواع نانو ذرات ، نانو تیوپ ها و ... می باشند که در زیر به آنها اشاره می شود :

دستگاه HFCVD :

پوشش‌دهي شيميايي در حالت بخار با استفاده از فيلمان داغ يا HFCVD روشي است كه مي‌توان از آن جهت ساخت فيلم‌هاي الماس و نانوتيوپ‌هاي كربني استفاده نمود و در تكنولوژي نانو از كاربردهاي بسياري برخوردار است. كليه مراحل طراحي، ساخت و راه‌اندازي سيستم HFCVD در مركز تحقيقات فیزیک پلاسما صورت گرفته و از جمله نتايج اجراي اين طرح مي‌توان به ثبت سه اختراع ملي به شماره‌ هاي 54443، 54438 و 54444 در مورخه 18/8/1387 و ثبت اختراع در آمریکا با شماره US 2009/0274610 A1  در تاریخ پنجم نوامبر 2009 و  نيز چاپ چندين مقاله معتبر اشاره كرد.

دستگاه PECVD :

رآكتور طراحي و ساخته شده در مركز تحقيقات فيزيك پلاسما براي توليد فيلم‌هاي نازك و نانوساختارها می باشد به طوريكه ذرات فعال شده فاز گازي بعد از نشت بر روي سطح زيرلايه (substrate) با ايجاد واكنش شيميايي با سطح ساختار جامدي را تشكيل مي‌دهد. تفاوت فرآيند PECVD با ديگر CVDها وجود محيط پلاسماست، زيرا كه بدليل ويژگي‌هاي پلاسما اغلب واكنش‌هاي سطح و فاز گازي قابل كنترل مي‌شوند. در ديگر انواع CVD گازها به كمك گرما فعال مي‌شوند اما در PECVD اين برخوردهاي الكتروني هستند كه گازها را قعال مي‌كنند.

دستگاه TCVD :

این دستگاه برای بازپخت (آنیل کردن) نمونه ها به منظور تشکیل ساختاری جدید بعد از عملیات حرارتی استفاده می شود که این فرایند براساس دمای عملیات و چگونگی فرایند سرد کردن  صورت می پذیرد ، همچنین از این دستگاه در فرایند اکسیداسیون استفاده می شود.  این دستگاه قابلیت افزایش دما تا 1000 درجه سانتیگراد را دارد در نتیجه می توان لایه اکسیدی پایداری را با ضخامت دلخواه برروی زیر لایه مورد نظر نشاند. از آنجاییکه این دستگاه قابلیت رونشست بخار شیمیایی در دماهای متفاوت را دارا می باشد می توان با تجزیه هیدرو کربنها ، نانوساختارهای کربن را بر روی زیر لایه مورد نظر نشاند.